江丰电子:目前公司高纯金属溅射靶材及半导体精密零部件的产能利用率良好

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江丰电子:目前公司高纯金属溅射靶材及半导体精密零部件的产能利用率良好
发布日期:2025-09-06 10:31    点击次数:187

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  每经AI快讯,8月23日,江丰电子在互动平台回复投资者提问时称,目前公司高纯金属溅射靶材及半导体精密零部件的产能利用率良好。公司定增的主要目的如下:1.扎根高纯金属溅射靶材领域,加速全球化战略布局,提升国际竞争力;2.持续完善半导体精密零部件业务布局;3.充分利用上海及长三角半导体产业区位优势,提升公司创新服务能力;4.增强公司资金实力,优化财务结构,提升公司抗风险能力。



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